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PLUTO-MH國(guó)產(chǎn)等離子刻蝕機(jī)是針對(duì)于高校，科學(xué)研究所和企業(yè)實(shí)驗(yàn)室，或者小批量生產(chǎn)的創(chuàng)新性企業(yè)而研發(fā)的創(chuàng)新型實(shí)驗(yàn)平臺(tái)。針對(duì)用戶不同的需求，我們提供不同功能附件，在獲得常規(guī)性能的同時(shí)，擁有表面鍍膜（涂層），刻蝕，等離子化學(xué)反應(yīng)，粉體等離子體處理等多種能力。

PLUTO-E100型科研型等離子體干法刻蝕（ICP/CCP）系統(tǒng)是一款低成本，適合于科研機(jī)構(gòu)實(shí)驗(yàn)室的桌面型科研設(shè)備，整套系統(tǒng)的目的是在4寸以及以下的樣品上進(jìn)行干法刻蝕。該系統(tǒng)包括反應(yīng)腔室，真空系統(tǒng)，RF射頻系統(tǒng)，反應(yīng)氣路系統(tǒng)，電器控制，軟件程序等幾個(gè)子系統(tǒng)。

CCP等離子刻蝕機(jī)(Plasma Etcher)是一種常用于微納米加工領(lǐng)域的設(shè)備，用于對(duì)半導(dǎo)體器件、光學(xué)元件、生物芯片等材料進(jìn)行精細(xì)加工和圖案定義。其原理基于等離子體技術(shù)，通過將氣體放電產(chǎn)生等離子體，利用等離子體中的離子和自由基對(duì)材料表面進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)和物理刻蝕。

ICP等離子刻蝕機(jī)WINETCH是面向科研及企業(yè)研發(fā)客戶使用需求設(shè)計(jì)的高性價(jià)比ICP等離子體系統(tǒng)。作為一個(gè)多功能系統(tǒng)，它通過優(yōu)化的系統(tǒng)設(shè)計(jì)與靈活的配置方案，獲得高性能ICP刻蝕工藝。該設(shè)備結(jié)構(gòu)緊湊占地面積小，專業(yè)的機(jī)械設(shè)計(jì)與優(yōu)化的自動(dòng)化操作軟件使該設(shè)備操作簡(jiǎn)便、安全，且工藝穩(wěn)定重復(fù)性很好。

PLUTO-MH國(guó)產(chǎn)等離子刻蝕機(jī)設(shè)備是一種用于微納米加工的關(guān)鍵設(shè)備，主要用于半導(dǎo)體、光電子、納米材料等領(lǐng)域的微細(xì)加工和表面處理。等離子刻蝕技術(shù)是半導(dǎo)體制造中的關(guān)鍵步驟，它在制備微電子器件、光電子器件、MEMS、太陽能電池等多種電子產(chǎn)品中發(fā)揮著重要作用。